未来7年，中美芯片竞争白热化，整个芯片产业链，我们有哪些环节被卡脖子？又有哪些突破？【阿牛】-未来7年，中美芯片竞争白热化，整个芯片产业链，我们有哪些环节被卡脖子？又有哪些突破？【阿牛】

热门回复：

• 某不知名张三Albert:其实技术差距大不是问题的，过个10年20年总能赶上的，这本来就是一场持久战，怕的就是速胜派和速败派，他们明明不是这一行的人，但是喜欢像癌细胞一样散播喜讯和焦虑，但是真正做技术的人又很少发表观点，声音完全被淹没了
• 亚历山大-富贵:别说大概率会输了，就是必输也得上，国家博弈没你想得这么简单
• Polooooooo:喷子和恨国党太多了。只能三连支持up主
• police11:有两个错误需要指出，一是EUV光源，cymer的EUV光源使用的是德国通快的大功率二氧化碳激光器发出波长约为10.6um的激光打击锡滴，使其热辐射峰值波长为13.5nm的EUV光，并不是UP所说的用193nm的DUV光打击锡滴，193nmDUV光打在锡滴上的吸收率很低，另外是DUV光源的功率做不大，日本gigaphoton商用的波长为193nm的DUV光源，功率最大只能做到90W。通快的二氧化碳激光器功率最大能做到50KW以上。第二外错误是，上微精度为90nm的DUV光刻机是干式光刻机，不需要用在镜头和硅片间加水。浸润式DUV光刻机用于45nm及以下的工艺节点中，网传上微的用于28nm工艺节点的浸润式DUV光刻机今年才通过科技部的认定，量产还需要几年的时间。上微90nm精度的DUV干式光刻机SSA/600已经量产，燕东微，长江，长鑫等企业均有采购。这里是转载。
• が墨夜:说一个小知识，一条不停流动的河，如果你把这条河堵住截断，当这条河的水积累到一定程度，它就会从其他的方向冲出去，形成新的河道，放弃旧河道[妙啊]