刻蚀2-【集成电路制造工艺】刻蚀-图形负载效应
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- 招魂使者:在孤立的特征的侧壁上积聚的刻蚀副产物比在密集分布的特征上积聚的刻蚀副产物更多。因此，它们的最终宽度会不同，这种现象称为图形负载效应。
http://acg.ibilibili.com/cms/yirenzhixia/7.html
